據(jù)彭博社報道，荷蘭政府計劃最快下周發(fā)布新的出口管制措施，將限制 ASML 的半導(dǎo)體制造設(shè)備出口。

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　　報道稱，此次出口管制名單新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等深紫外光(DUV)浸入式光刻設(shè)備。IT之家注意到，這一系列設(shè)備最高可支持 5 nm 工藝，如臺積電就使用 SAQP 和氬氟浸沒 (ArFi) 光刻實現(xiàn)了 7 nm 量產(chǎn)。此前，ASML 最先進的極紫外光(EUV)光刻機已在出口管制列表當中。

　　彭博社援引知情人士消息稱，這一出口管制新規(guī)最早將在 6 月 30 日或 7 月第一周公布，有可能成為被其他歐盟成員國效仿的對象，荷蘭政府發(fā)言人對此不予置評。

　　報道指出，這是荷蘭和日本今年 1 月原則上同意加入美國限制對中國大陸出口先進半導(dǎo)體制造設(shè)備的行動以來的最新舉措，荷蘭貿(mào)易部長 Schreinemacher 稱，荷蘭以國家和國際安全考量，有必要盡快限制先進半導(dǎo)體技術(shù)出口。

　　ASML 執(zhí)行副總裁兼商務(wù)總監(jiān) Christophe Fouquet 聲稱，幾乎不可能建立全自主的芯片產(chǎn)業(yè)鏈，這樣做的代價是極為高昂和困難的，日本光刻機制造商佳能和尼康便是前車之鑒。
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